<noscript id="fooz1"><del id="fooz1"></del></noscript>

    1. <tr id="fooz1"></tr>
        <table id="fooz1"><th id="fooz1"><track id="fooz1"></track></th></table>

        <em id="fooz1"><span id="fooz1"></span></em>
      1. <form id="fooz1"></form><sub id="fooz1"><listing id="fooz1"></listing></sub>

        新聞資訊

        產品分類

        聯系我們

        地址:北京市海淀區清河小營雄獅機械廠

        電話:13911005996 

        座機:010-69731920

        郵箱:xu872@bjpram.com

        QQ:983851550

        網址:www.sabiluna.com


        行業新聞

        您的當前位置: 首 頁 >> 新聞動態 >> 行業新聞
        • 高純鉿靶材

          鉿,金屬Hf,原子序數72,原子量178.49,熔點高,與鋯共存。是一種帶光澤的銀灰色的過渡金屬。有金屬光澤;金屬鉿有兩種變體:α鉿為六方密堆積變體(1750℃),其轉變溫度比鋯高。金屬鉿在高溫下有同素異形變體存在。具有塑性的金屬,當有雜質
          發布時間:2016-06-01   點擊次數:993

        • 鉬靶材主要用于平面顯示行業,屬于鉬金屬制品生產鏈最頂端產品

          鉬靶材主要用于平面顯示行業,屬于鉬金屬制品生產鏈最頂端產品新靶材含有與刀具及模具等的母材的密著性高、且潤滑性出色的鉬。因此可省去用于提高密著性的襯底用靶材,降低成本。一般情況
          發布時間:2016-04-22   點擊次數:1342

        • 靶材的主要性能要求

          靶材的主要性能要求純度純度是靶材的主要性能指標之一,因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應用中,對靶材的純度要求也不盡相同。例如,隨著微電子行業的迅速發展,硅片尺寸由6”,8“發展到12”,而布線寬
          發布時間:2016-03-29   點擊次數:918

        • 濺射靶材的分類

          濺射靶材的分類金屬濺射鍍膜靶材,合金濺射鍍膜靶材,陶瓷濺射鍍膜靶材,硼化物陶瓷濺射靶材,碳化物陶瓷濺射靶材,氟化物陶瓷濺射靶材,氮化物陶瓷濺射靶材,氧化物陶瓷靶材,硒化物陶瓷濺射靶材,硅化物陶瓷濺射靶材,硫化
          發布時間:2016-03-29   點擊次數:708

        • 真空鍍膜和光學鍍膜區別

          真空鍍膜主要利用輝光放電(glowdischarge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表面,靶材的原子被彈出而堆積在基板表面形成薄膜。濺鍍薄膜的
          發布時間:2016-03-29   點擊次數:314

        • 未來ITO靶材發展趨勢

          未來ITO靶材發展大致有以下的趨勢:  1.降低電阻率。隨著LCD愈來愈精細化發展的趨向,以及它的驅動程序不同,需要更小電阻率的透明導電膜?! ?.高密度化。靶材密度的改善直接帶來的益處主要表現在減少黑化和降低電阻率方面。靶材若為低密度時,
          發布時間:2016-03-29   點擊次數:592

        • 采購靶材的注意事項

          (1) density,這個是最主要的,好的靶密度至少達到97%以上,所以大家買回靶來以后可以根據重量體積來計算一下你們的靶的密度和理論塊體的密度的比例有多少,低于90%的退貨?! ?2) 開裂問題,套磁靶很容易開
          發布時間:2016-03-29   點擊次數:413

        • 全球靶材市場的基本情況總結

          目前全球各主要靶材制造商的總部,大多設立在美國、德國和日本。就美國而言.約有50家中小規模的靶材制造商及經銷商,其中最大的公司員工大約有幾百人。不過為了能更接近使用者,以便提供更完善的售后服務,全球主要靶材制造商
          發布時間:2016-03-29   點擊次數:894

        • 真空濺射靶材的信息介紹

          真空濺射靶材的信息介紹,幫助大家更好的了解靶材行業的知識?! “胁募夹g指標:純度:3-4N主要成分:ZnO:Al2O3=97:3[可根據用戶要求調整Al2O3摻雜比(0-4)wt%]相對密度:d≥98%理論密度:ρ=5
          發布時間:2016-03-29   點擊次數:191

        • 磁控濺射技術如何分類?

          可以分為直流磁控濺射法和射頻磁控濺射法?! ≈绷鳛R射法要求靶材能夠將從離子轟擊過程中得到的正電荷傳遞給與其緊密接觸的陰極,從而該方法只能濺射導體材料,不適于絕緣材料,因為轟擊絕緣靶材時表面的離子電荷無法中和,這將導致靶面電位升高
          發布時間:2016-03-29   點擊次數:429

        共14第每頁10第頁次:1/2
        12下一頁尾頁
        歡迎給我們留言
        請在此輸入留言內容,我們會盡快與您聯系。
        姓名
        聯系人
        電話
        座機/手機號碼
        亚洲AⅤ精品无码一区二区17