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合金靶材的濺射原理：對濺射類(lèi)鍍膜，可以簡(jiǎn)單理解為利用電子或高能激光轟擊靶材，并使表面組分以原子團或離子形式被濺射出來(lái)，并且最終沉積在基片表面，經(jīng)歷成膜過(guò)程，最終形成薄膜。濺射鍍膜又分為很多種，總體看，與蒸發(fā)鍍膜的不同點(diǎn)在于濺射
發(fā)布時(shí)間：2016-03-29 點(diǎn)擊次數：445
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一、濺射準備保持真空腔體尤其是濺射系統潔凈是非常重要的。任何由潤滑油和灰塵以及前期鍍膜所形成的殘留物會(huì )收集水氣及其他污染物，直接影響真空度獲得和增加成膜失敗的可能性。短路或靶材起弧，成膜表面粗糙及化學(xué)雜質(zhì)含量超標經(jīng)
發(fā)布時(shí)間：2016-03-29 點(diǎn)擊次數：1408
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一、背靶材料無(wú)氧銅(OFC)–目前最常使用的作背靶的材料是無(wú)氧銅，因為無(wú)氧銅具有良好的導電性和導熱性，而且比較容易機械加工。如果保養適當，無(wú)氧銅背靶可以重復使用10次甚至更多。鉬(Mo)–在某些使用條件比較特殊的情況下，如
發(fā)布時(shí)間：2016-03-29 點(diǎn)擊次數：318
